Mit den Elektronenkanonen EH150V, EH 300V und EH800V bieten wir Ihnen Komponenten für Hochleistungsanwendungen. Das gilt sowohl für das Schmelzen und Reinigen von Metallen als auch für das Verdampfen für Beschichtungsanwendungen.
Profitieren Sie von dem umfassenden Know-how, dass wir durch über 400 Elektronenstrahlsysteme im Einsatz auf der ganzen Welt erarbeitet haben. Es umfasst die Strahlerzeugung, Generatortechnik, Strahlfokussierung und digitale Verfahren der Strahlablenkung. Diese Verfahren ermöglichen eine dedizierte Leistungsverteilung und zeitliche Steuerung auf der vom Elektronenstrahl beaufschlagten Fläche.
In unserem Entwicklungszentrum für Elektronenstrahltechnologien arbeiten wir an der ständigen Verbesserung unserer Schlüsselkomponenten. Hier fertigen und prüfen wir auch unsere hochwertigen Elektronenstrahlkanonen.
Zuverlässig & erprobt
als Serienprodukt in vielen Anwendungen
Modulares Design
mit klaren Schnittstellen zur Anlagenintegration
Einfache Handhabung
und leichte Wartung
Technische Daten
Änderungen, die technischen Verbesserungen dienen, bleiben vorbehalten.
Substrat
Material: Flachglass
Dicke: 2 mm bis 19 mm
Beschichtungsfläche
GC330H: bis zu 3300 mm x 7800 mm (Super Jumbo)
GC280H: 2800 mm x 5000 mm
GC254H: 2540 mm x 3810 mm
Taktzeit
GC330H: < 28 s
GC280H: ≤ 25 s
GC254H: < 18 s
Basisdruck in Sputter-Kammer
≤ 5 x 10-6 mbar
Stromversorgung
Anforderungen: zwischen 0,5 und 5 MVA, abhängig von Anwendung und Durchsatz
Hauptanschlüsse: 400 VAC, 50 Hz oder 480 VAC, 60 Hz
