Duales Anoden-Sputtern (DAS) ist eine industriell erprobte Magnetron-Beschichtungstechnologie. Sie kann für keramische Prozesse verwendet werden mit Materialien wie Nioboxid (NbOx), Titanoxid (TiOx) oder intrinsischem Zinkoxid (i-ZnO), zum Beispiel in der Display- und Photovoltaik-Industrie. DAS garantiert eine gute Verfügbarkeit der Anode, da sie regelmäßige gereinigt wird, selbst wenn dielektrische Materialien abgeschieden werden.
Die DAS-Technologie ermöglicht uns, von der gemeinhin verwendeten AC-MF Methode zu einem mit Gleichspannung angetriebenen Prozess überzugehen, der die Wärmebelastung des Substrats erheblich verringert. Durch die Verwendung von DAS mit reaktiver Prozesssteuerung können hohe Abscheideraten im Übergangsbereich erzielt werden. Das ist eine entscheidende Verbesserung, vor allem bei der Abscheidung von Siliziumdioxid (SiO2) und Aluminiumoxid (AlOx).
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durch zyklische Reinigung der Anode
durch skalierbares Design
und zur Abgrenzung von Marktteilnehmern
San Francisco, CA, USA
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Booth 2261
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