DAS

Duales Anoden-Sputtern

Duales Anoden-­Sputtern (DAS) ist eine industriell erprobte Magnetron-Beschichtungs­technologie. Sie kann für keramische Prozesse verwendet werden mit Materialien wie Nioboxid (NbOx), Titanoxid (TiOx) oder intrinsischem Zinkoxid (i-ZnO), zum Beispiel in der Display- und Photovoltaik-Industrie. DAS garantiert eine gute Verfügbarkeit der Anode, da sie regelmäßige gereinigt wird, selbst wenn dielektrische Materialien abgeschieden werden.

Die DAS-Technologie ermöglicht uns, von der gemeinhin verwendeten AC-MF Methode zu einem mit Gleich­spannung angetriebenen Prozess überzugehen, der die Wärme­belastung des Substrats erheblich verringert. Durch die Verwendung von DAS mit reaktiver Prozess­steuerung können hohe Abscheide­raten im Übergangs­bereich erzielt werden. Das ist eine entscheidende Verbesserung, vor allem bei der Abscheidung von Silizium­dioxid (SiO₂) und Aluminium­oxid (AlOx).