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Optik - WAFER (Si, InP, GaAs)

WAFER (Si, InP, GaAs) 0.7 mm thick Ø 4″, 6″, 200 / 300 mm

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Optik

Wafer-Level-Optik Laserdioden

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Optik - ULTRADÜNNGLAS

ULTRADÜNNGLAS 0,1 ~ 0,3 mm dick Ø 200 mm

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Optik

Wafer-Level-Optik 3D-Abtastung

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Optik - GROßFLÄCHIG

GROßFLÄCHIG 2 ~ 50 mm dick, Ø bis zu 200 mm, □ bis zu 300 x 400 mm2

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Optik - SPHÄRISCH

SPHÄRISCH 5 mm – 70 mm dick Ø bis zu 200 mm

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Geschichte - Aktuelle Entwicklungen

Aktuelle Entwicklungen Der Fokus bei der Weiterentwicklung des Elektronenstrahlsystems verlagerte sich in den letzten 10-15 Jahren zunehmend mehr in Richtung der Komponenten zur…

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Portfolio: Alle Beschichtungsanlagen - Portfolio Beschichtungs­anlagen

Portfolio Beschichtungs­anlagen

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Geschichte

Um diese Energiedichten bewerten zu können, muss der Elektronenstrahl hinsichtlich Strahldurchmesser, Energie und Pulsdauer sehr genau einstellbar sein. All diese Anforderungen haben in den 60…

URL: /technologien/elektronenstrahltechnologie/geschichte/#c35870 Mehr erfahren

TAC - Erkenntnis­gewinn durch Simulation

Erkenntnis­gewinn durch Simulation der Schicht­zusammen­setzung & Eigenschaften

URL: /engineering/technology-application-center/tac/#c39547 Mehr erfahren
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