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DAS - Beschichtung mit hohen Abscheide­raten

Beschichtung mit hohen Abscheide­raten und hoher Verfügbarkeit der Anode bei langer Laufzeit

High-Utilization Planar-Kathode - Niedrige Target-Kosten gegenüber Rohr-Kathoden

Niedrige Target-Kosten gegenüber Rohr-Kathoden durch einfacheres Herstell­verfahren

High-Utilization Planar-Kathode - Lange Laufzeiten

Lange Laufzeiten durch höchstmögliche Target­ausnutzung

Rohr-Magnetrons - Beste Beschichtungsergebnisse

Beste Beschichtungsergebnisse hinsichtlich Rate & Schicht­gleichmäßigkeit

Rohr-Magnetrons - Hohe Prozess­stabilität

Hohe Prozess­stabilität durch geringe Redepositions­zone

Rohr-Magnetrons - Steigern Sie Ihren Ertrag beim Sputtern

Steigern Sie Ihren Ertrag beim Sputtern bei höchster Schicht­gleichmäßigkeit durch längere Target-Lebensdauer

Planar-Magnetrons - Flexible Lösungen für Ihren Beschichtungs­prozess

Flexible Lösungen für Ihren Beschichtungs­prozess durch modularen Aufbau & mehreren Magnetfeld­optionen

Planar-Magnetrons - Steigern Sie Ihren Ertrag beim Sputtern

Steigern Sie Ihren Ertrag beim Sputtern bei höchster Schicht­gleichmäßigkeit durch höchste Zuverlässigkeit & Laufzeit

X-Series Endblöcke - Einfache & sichere Wartungs­abläufe

Einfache & sichere Wartungs­abläufe durch Plug & Play-Kartuschen­design

X-Series Endblöcke - Niedrige Betriebskosten

Niedrige Betriebskosten durch geringen Wartungs­aufwand & verschleißarme Materialien