Mit der DREVA400 erhalten Sie eine flexible PVD-Beschichtungsanlage zur Abscheidung von Hartstoffschichten durch kathodische ARC-Verdampfung.
Sie ermöglicht Ihnen auch den Einsatz von planaren oder drehbaren Magnetron-Sputterquellen bis hin zu HiPIMS. Die Verdampfer sind als kreisförmige, planare (gesteuerte) ARC-Verdampfungsquellen ausgelegt.
Die Hohlkathoden-Plasmaquelle kann zur Aktivierung, Feinreinigung und Heizung der Substrate eingesetzt werden. Sie zeichnet sich durch hohe Entladungsströme im Bereich von >100 A und eine entsprechend hohe Plasmadichte und BIAS-Ströme auf den Substraten aus.
Die Anlage verfügt über eine vollautomatische Rezeptursteuerung, kann aber auch im manuellen Modus betrieben werden. Sie wird mit einer Reihe von Standardrezepten für die Abscheidung von Hartstoffschichten geliefert.
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durch kathodischen ARC-Verdampfungsverfahren
durch modulare Quellenkonfiguration
mit dreifacher Substratrotation für 3D-Teile
San Francisco, CA, USA
The Moscone Center
Booth 2261
Shanghai, China
Shanghai New International Expo Center
N1 / 181
Shanghai, China
National Exhibition and Convention Center
A006
San Francisco, CA, USA
Moscone Center
North Hall | Booth 5373