VA TIPCOS ermöglicht Ihnen die auto­matische Bestimmung des Kipp­punktes und die Fest­legung von Arbeits­punkten in der Nähe des Kipp­punktes. Damit können Sie die  besten Abscheide­raten bei reaktiven Sputter-­Prozessen gewähr­leisten.

Außer­dem kann VA TIPCOS die Einstellungen reaktiver Pro­zesse für einzelne Mag­netrons oder eine Gruppe benach­barter Magnetrons mit identischen Prozess­parametern und dem­selben Target-­Material überwachen.