Wafer-Level-Optik
Beschichtungsanlagen für präzisionsoptische Komponenten
Optische Filterschichten, die direkt auf Glas- oder Halbleiterwafern abgeschieden werden, ermöglichen optische Produkte, die eine sehr geringe Größe und ein wettbewerbsfähiges Preis-Leistungs-Verhältnis haben. Daher haben sie den Weg in verschiedene Märkte wie die Unterhaltungselektronik oder die Automobilindustrie gefunden. Durch die steigende Nachfrage nach Großserienfertigung rückt die Wafer-Level-Optik in den Fokus der Industrie.
Mit der OPTA X bieten wir Ihnen eine Beschichtungsanlage, die speziell für die Anforderungen in den Bereichen der Photonik und Wafer-Level-Optik entwickelt wurde.
Für die Multilayer-Beschichtung von Wafer-basierten Mikrolinsen-Arrays, Halbleiter-Sensoren oder Filter-on-Chip CMOS ermöglicht Ihnen die OPTA X eine vollautomatisierte, SEMI-kompatible Wafer-Handhabung zur Integration in Halbleiterfabriken. Neben Wafern mit 200 Millimetern Durchmesser ist die OPTA X zusätzlich für Wafergrößen bis 300 Millimeter geeignet.
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Optische Filterschichten direkt auf Halbleiterscheiben
zum Beispiel für Siliziumgeräte
Optische Überwachung der Transmission oder Reflexion
direkt auf dem Wafer
SEMI-kompatible Waferhandhabung
für die Integration in Halbleiterfabriken