DAS
Duales Anoden-Sputtern

Duales Anoden-­Sputtern (DAS) ist eine industriell erprobte Magnetron-Beschichtungs­technologie. Sie kann für keramische Prozesse verwendet werden mit Materialien wie Nioboxid (NbOx), Titanoxid (TiOx) oder intrinsischem Zinkoxid (i-ZnO), zum Beispiel in der Display- und Photovoltaik-Industrie. DAS garantiert eine gute Verfügbarkeit der Anode, da sie regelmäßige gereinigt wird, selbst wenn dielektrische Materialien abgeschieden werden.

Die DAS-Technologie ermöglicht uns, von der gemeinhin verwendeten AC-MF Methode zu einem mit Gleich­spannung angetriebenen Prozess überzugehen, der die Wärme­belastung des Substrats erheblich verringert. Durch die Verwendung von DAS mit reaktiver Prozess­steuerung können hohe Abscheide­raten im Übergangs­bereich erzielt werden. Das ist eine entscheidende Verbesserung, vor allem bei der Abscheidung von Silizium­dioxid (SiO2) und Aluminium­oxid (AlOx).

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Lange Laufzeit - auch bei isolierenden Schichten

durch zyklische Reinigung der Anode

Flexible Anordnung für Ihr System

durch skalierbares Design

Patentierte technische Lösung für innovativen Betrieb

und zur Abgrenzung von Markt­teilnehmern

Software
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Anlagen
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Product Manager Plasma Components VON ARDENNE GmbH