Wenn Sie eine hochproduktive und flexible Produktionsanlage in Kombination mit bewährter Technologie und Design suchen, ist die XEA|nova L die perfekte Wahl für Sie.
Die Inline-Beschichtungsanlage basiert auf unserer patentierten Beschichtungstechnologie für große Substratflächen. Die Anlage ist breit und kann daher viele Substrate gleichzeitig verarbeiten. Deshalb eignet sie sich besonders für Anwendungen mit hoher Produktivität bei sehr niedrigen Kosten. Mit der XEA|nova L können Sie Siliziumwafer oder andere kleine Substrate simultan auf beiden Seiten beschichten. Auch für sehr dünne Substrate ist sie geeignet.
Dank ihres modularen Aufbaus kann die XEA|nova L mit Magnetrons mit rotierenden Targets für die Sputterabscheidung von Hochleistungs-TCO-Schichten oder verschiedenen anderen Materialien wie Metallen und Metalloxiden ausgestattet werden. Außerdem kann sie für andere Abscheidungstechnologien angepasst werden. Die Substrate können in der Anlage auch durch Reinigung oder Ätzen vorbehandelt werden, entweder unter Vakuum oder vor dem Eintritt in das Vakuum.
Die XEA|nova L profitiert von unserer Erfahrung, die wir bei der Auslieferung von mehr als 250 Beschichtungsanlagen an Unternehmen in der Photovoltaik-Industrie gesammelt haben.
