High-Utilization Planar-Kathode
für Sputter-Prozesse mit planaren Targets

Magnetron­sputtern ist die bewährte und wirtschaftlichste Methode für die Abscheidung dünner optischer Schichten für Anwendungen wie Architektur- und Automobil­glas. Die Technologie wurde vor etwa 40 Jahren in der Glasindustrie eingeführt.

Ihr Erfolg und industrieller Durchbruch kam mit der Entwicklung des planaren Magnetrons für große Beschichtungs­breiten von bis zu 3,2 Metern.

Heute können wir Ihnen planare Kathoden für eine Vielzahl von Anwendungen und Target-Abmessungen anbieten. Dabei können Sie sich darauf verlassen, dass unser Fokus stets auf höchster Produktivität und besten Schicht­eigenschaften liegt.

Wollen Sie mehr erfahren? Dann werfen Sie einen Blick in die Broschüre, oder nehmen Sie direkt Kontakt auf.

Lange Laufzeiten

durch höchstmögliche Target­ausnutzung

Beste Schichtgleichmäßigkeit im Markt

durch optimiertes Magnetfeld

Niedrige Target-Kosten gegenüber Rohr-Kathoden

durch einfacheres Herstell­verfahren

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Ronny Borchel

Product Manager Plasma ComponentsVON ARDENNE GmbH

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