VA PROCOS 2
Prozesskontrollsystem für reaktives Sputtern

VA PROCOS 2 ist ein modulares Prozesskontrollsystem, das speziell für die Stabilisierung von reaktiven Sputter-Prozessen im kritischen Übergangsmodus entwickelt wurde.

Es eignet sich zur Prozesscharakterisierung durch optische Emissionslinien, Kathodenspannung, Sauerstoffpartialdruck, Kombinationen davon sowie weiterer SPS-Signale.

Darüber hinaus kann es zur Stabilisierung der Plasmaentladung und damit der Produkteigenschaften verwendet werden. Dies gelingt durch Anpassung der Zufuhr eines oder mehrerer reaktiver Gase.

VON ARDENNE ist seit 1980 führend bei reaktiven Sputter-Prozessen. Darüber hinaus bieten wir seit vielen Jahren unser Prozess-Steuerungssystem VA PROCOS an und haben es kontinuierlich optimiert.

Unser aktuelles System VA PROCOS 2 steuert das reaktive Magnetron-Sputtern von Verbundschichten (wie z.B. ITO, TiO₂, TiN, Al₂, O₃, AlN, SnO₂, SiO₂, Si₃N₄, ZnO, ZrO or Ta₂O₅ ) und sorgt für zuverlässige Stabilität der Arbeitspunkte an den kritischen Übergangsbereichen. Außerdem steuert das System zuverlässig ein oder mehrere Einlässe für Reaktivgase (z.B. Oxynitride).

Wollen Sie mehr erfahren? Dann werfen Sie einen Blick in die Broschüre, oder nehmen Sie direkt Kontakt auf.

Plasma Components

Zuverlässige & industrieerprobte Steuerung

für reaktives Sputtern aller üblichen Schichtsysteme

Leicht konfigurierbar mit externen Komponenten

für alle Anwendung des reaktiven Sputterns

Leicht zu integrieren:

Konstruiert für Einsatz in beliebigen Sputter-Anlagen

Perspektivische Darstellung eines VON ARDENNE Prozesskontrollsystems VAprocos.

Anlagen

Media

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