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Cluster-Systeme - CS200

CS200 Ideal für Anwendungen in der Halbleiter- und Optikindustrie  Hoher Durchsatz Kompakten Abmessungen 

MEMS - Konfigurierbare Systeme für die Fertigung der nächsten Generation von MEMS

Konfigurierbare Systeme für die Fertigung der nächsten Generation von MEMS für metallische, nichtmetallische, optische und halbleitende Schichten Entwicklung von kundenspezifischer…

VISS - VISS600

VISS600 Hohe Produktivität dank Substratbreiten bis zu 600 mm

VISS - VISS400

VISS400 Geringe Abmessungen und niedriges Gewicht ermöglichen den Einsatz in beengten Produktionsräumen

OPTA X - OPTA X300

OPTA X300 Prozessierung von Substraten bis 300 mm Durchmesser, inkl. G12-Wafer Erfüllt höchste Ansprüche bei optischen Anwendungen durch hochreine und defektarme optische Schichten …

OPTA X - OPTA X200

OPTA X200 Für Anwendungen auf Substraten mit bis zu 200 mm Durchmesser optimiert Erfüllt höchste Ansprüche bei optischen Anwendungen durch hochreine und defektarme optische Schichten …

Halbleiter - Exzellente Umsetzung neuer An­forderungen in kundenspezifischen Lösungen

Exzellente Umsetzung neuer An­forderungen in kundenspezifischen Lösungen mit einem sehr erfahrenen Team

Optische Fenster - Bis zu 50 % weniger Personalaufwand

Bis zu 50 % weniger Personalaufwand durch vollautomatisierte Rezeptsteuerung, Carrier-Handling & Substratbestückung

PiezoMEMS - Extrem hohe Produktivität

Extrem hohe Produktivität sorgt für geringe Betriebskosten

PiezoMEMS - Modulares Design gewährleistet flexible Systemkonfiguration

Modulares Design gewährleistet flexible Systemkonfiguration zur Erfüllung jeglicher Prozessanforderungen