VA PROCOS 2 ist ein modulares Prozesskontrollsystem, das speziell für die Stabilisierung von reaktiven Sputter-Prozessen im kritischen Übergangsmodus entwickelt wurde.
Es eignet sich zur Prozesscharakterisierung durch optische Emissionslinien, Kathodenspannung, Sauerstoffpartialdruck, Kombinationen davon sowie weiterer SPS-Signale.
Darüber hinaus kann es zur Stabilisierung der Plasmaentladung und damit der Produkteigenschaften verwendet werden. Dies gelingt durch Anpassung der Zufuhr eines oder mehrerer reaktiver Gase.
VON ARDENNE ist seit 1980 führend bei reaktiven Sputter-Prozessen. Darüber hinaus bieten wir seit vielen Jahren unser Prozess-Steuerungssystem VA PROCOS an und haben es kontinuierlich optimiert.
Unser aktuelles System VA PROCOS 2 steuert das reaktive Magnetron-Sputtern von Verbundschichten (wie z.B. ITO, TiO2, TiN, Al2, O3, AlN, SnO2, SiO2, Si3N4, ZnO, ZrO or Ta2O5 ) und sorgt für zuverlässige Stabilität der Arbeitspunkte an den kritischen Übergangsbereichen. Außerdem steuert das System zuverlässig ein oder mehrere Einlässe für Reaktivgase (z.B. Oxynitride).
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für reaktives Sputtern aller üblichen Schichtsysteme
für alle Anwendung des reaktiven Sputterns
Konstruiert für Einsatz in beliebigen Sputter-Anlagen
