CLUSTER-­SYSTEME

für Forschung, Entwick­lung & Produktion

Die Cluster-Systeme CS200 und CS300 sind modulare Beschichtungs­anlagen, die sich für hoch­flexible bzw. hoch­produktive Prozesse in der Ent­wicklung bzw. Pro­duktion von Halb­leiter-, Optik- bzw. Photo­voltaik-Anwendungen eignen. Die Anlagen sind speziell für die Prozessierung von Substraten mit einem Durch­messer von 200 mm bzw. 300 mm (inkl. G12-Wafer) ausgelegt.

Damit sind unsere Cluster-Systeme ideal Wahl für die Entwicklung neuer Beschichtungs­technologien und die Erzeug­ung von Schichten mit spezifischen Eigen­schaften und einer hohen Reproduzier­barkeit. Zu den Anwendungen zählen Sensoren und die Silizium-Durch­kontaktierung (TSV) für die 3D-Advanced-Packaging-Technologie in der Halb­leiter­industrie. Darüber hinaus findet die CS300 in der Ent­wicklung neuer Solarzell-Generationen wie TOPCon und Perowskit-Tandem ihren Einsatz. 

Dank ihrer großen Flexibilität helfen die Cluster-Systeme, Ihre Betriebs­kosten zu senken. Sie sind individuell für unter­schiedliche Auf­gaben konfigurierbar: Um die zentrale Transfer­kammer finden bis zu sieben Prozess­kammern und eine oder mehrere Schleusen Platz. Alle Kammern sind sowohl vakuum- als auch steuerungs­technisch voneinander getrennt.

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