GIGA|nova

Horizontale Wafer-Beschichtungs­anlage

Wenn Sie hochproduktive Beschichtungsanlagen für eine Solarzellenfertigung von bis zu 1,3 Gigawatt Jahreskapazität suchen, ist die horizontale Wafer-Beschichtungs­anlage GIGA|nova die perfekte Wahl. Es gibt keine vergleichbare Carrier-basierte Anlage am Markt mit höherem Durchsatz. 

Die Inline-Beschichtungsanlage basiert auf unserer patentierten Beschichtungstechnologie für große Substratflächen. Die Anlage ist sehr breit und kann daher viele Substrate gleichzeitig verarbeiten. Deshalb eignet sie sich besonders für Anwendungen mit hoher Produktivität bei sehr niedrigen Kosten. Mit der GIGA|nova können Sie Siliziumwafer einseitig und beidseitig beschichten.

Dank ihres modularen Aufbaus kann die GIGA|nova mit Magnetrons mit rotierenden Targets für die einseitige Sputterabscheidung oder mit Linearverdampfern für thermisches Verdampfen ausgestattet werden.

Die GIGA|nova profitiert von unserer Erfahrung, die wir bei der Auslieferung von mehr als 300 Beschichtungsanlagen für die Massenproduktion an Unternehmen in der Photovoltaik-Industrie gesammelt haben. 

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