GIGA|nova SCX

Horizontale Wafer-Beschichtungs­anlage

Wenn Sie hochproduktive Beschichtungsanlagen für eine Solarzellenfertigung von 1.3 Gigawatt Jahreskapazität suchen, ist die GIGA|nova SCX die perfekte Wahl für Sie. Es gibt keine vergleichbare Carrier-basierte Anlage am Markt mit höherem Durchsatz. 

Die Inline-Beschichtungsanlage basiert auf unserer patentierten Beschichtungstechnologie für große Substratflächen. Die Anlage ist sehr breit und kann daher viele Substrate gleichzeitig verarbeiten. Deshalb eignet sie sich besonders für Anwendungen mit hoher Produktivität bei sehr niedrigen Kosten. Mit der GIGA|nova SCX können Sie Siliziumwafer einseitig beschichten.

Dank ihres modularen Aufbaus kann die GIGA|nova SCX mit Magnetrons mit rotierenden Targets für die einseitige Sputterabscheidung oder mit Linearverdampfern für thermisches Verdampfen ausgestattet werden.

Mögliche Anwendungen wären Tunneloxide und n- bzw. p-dotiertes Silizium für TOPCon oder IBC TOPCon, Metallschichten für IBC und ETL-, HTL-, Absorber-, TCO- oder Rekombinationsschichten für Tandem Perowskite (2T).

Die GIGA|nova SCX profitiert von unserer Erfahrung, die wir bei der Auslieferung von mehr als 300 Beschichtungsanlagen für die Massenproduktion an Unternehmen in der Photovoltaik-Industrie gesammelt haben. 

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